X射線熒光光譜儀既可用于材料的組成成分分析，又可用于涂層和多層薄膜厚度的測量等，是一種常用的光譜技術。與所有的分析儀器一樣，在做出購買決定前應當考慮許多因素，例如應用領域等細節。下面將著重討論在選擇一套用于測量薄層材料厚度的熒光光譜儀體系時應當考慮的一些重要因素，討論的對象主要為能量色散光譜儀體系（EDXRF），這種體系如今已經具有許多不同的配置規格，具體如下：

　　

　　主要組件的選擇：

　　1、氣氛

　　X射線熒光光譜儀能夠分析元素周期表中的大部分元素，具體而言，從鈉元素（原子序數Z=11）到鈾元素（原子序數Z=92）都可以利用這種技術進行檢測分析。但是對于原子序數較低的元素（鈦元素Ti，Z=22以下），空氣會對檢測結果產生較大影響；由低原子序數元素產生的熒光值通常更低，并且樣品基體中的其它元素有可能會吸收低原子序數元素的能量輻射。

　　

　　通常情況下，用于提高低原子序數元素的檢測靈敏度的方法主要為將儀器的樣品室抽成真空環境或者以氦氣(He)沖洗樣品室。

　　

　　2、探測器

　　新型探測器技術——硅漂移探測器（SDDs）能夠提高低能量敏感度，使得X射線熒光光譜技術可以對一些低原子序數元素進行檢測分析，甚至是在空氣氣氛中也能進行檢測，例如用于測量化學鍍鎳涂層中磷元素（原子序數Z=15）的含量。但是，大多數的低原子序數元素的檢測分析依然還需要隔離空氣氣氛。

　　

　　在能量色散熒光光譜儀中，硅探測器已經變得非常普遍；今天用到的硅探測器要么就是上面提到的硅漂移探測器，要么就是Si-PIN探測器，而比較流行的第三種探測器是一種密封的、充氣的正比計數器（PropCounter）。　　

　　對于不同的應用用途，光譜儀體系中探測器的選擇也不盡相同——例如對于定性分析往往需要用到硅漂移探測器。